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CT200N兩用涂層測(cè)厚儀

CT200N兩用涂層測(cè)厚儀

簡(jiǎn)要描述:

CT200N兩用涂層測(cè)厚儀
CT200升級(jí)版在開發(fā)過程中,增強(qiáng)了數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)功能,數(shù)據(jù)存儲(chǔ)采用回環(huán)覆蓋方式,避免了新用戶使用時(shí)出現(xiàn)存儲(chǔ)器滿的異常。

更新時(shí)間:2024-11-17

CT200N兩用涂層測(cè)厚儀

CT200N氧化膜測(cè)厚儀(CT200拓展型)  產(chǎn)品概述:

CT200升級(jí)版在開發(fā)過程中,增強(qiáng)了數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)功能,數(shù)據(jù)存儲(chǔ)采用回環(huán)覆蓋方式,避免了新用戶使用時(shí)出現(xiàn)存儲(chǔ)器滿的異常。采用了磁性(CT200F)和渦流(CT200N)兩種測(cè)厚方法,即可測(cè)量磁性金屬基體上非磁性覆蓋層的厚度又可測(cè)量非磁性金屬基體上非導(dǎo)電覆蓋層的厚度

CT200N氧化膜測(cè)厚儀(CT200拓展型) 功能特點(diǎn)

更加方便的數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)、增加存儲(chǔ)量  

任意界面測(cè)量

新穎的界面布局

簡(jiǎn)潔、經(jīng)濟(jì)、實(shí)用

增加了渦流功能測(cè)厚,實(shí)現(xiàn)一機(jī)兩用

設(shè)有五個(gè)統(tǒng)計(jì)量:平均值(MEAN)、*大值(MAX)、*小值(MIN)、測(cè)試次數(shù)(NO.)

標(biāo)準(zhǔn)偏差(S.DEV)

具有存貯功能:可存貯500個(gè)測(cè)量值


CT200N氧化膜測(cè)厚儀(CT200拓展型)技術(shù)參數(shù):

測(cè)頭類型

CT200F

CT200N

工作原理

磁感應(yīng)

電渦流

測(cè)量范圍

0~1250μm

0~1250μm,其中:銅上鍍鉻(0~40μm)

分辨力

0.1μm(0~50μm),1微米(>50μm)

測(cè)量誤差

3%H+1μm(H為測(cè)量范圍)

示值誤差

一點(diǎn)校準(zhǔn)(μm)

±(3%H+1)

±(3%H+1)

測(cè)試條件

*小曲率半徑(μm)

凸1.5

凸3

*小面積的直徑(μm)

Φ7

Φ5

基體臨界厚度(㎜)

0.5

0.3

工作電壓

3*1.5V

外形尺寸

155㎜*68㎜*27㎜

整機(jī)重量

230g

標(biāo)準(zhǔn)配置

主機(jī)、探頭(F或N)、基體(鐵或鋁)、標(biāo)準(zhǔn)片


CT200N氧化膜測(cè)厚儀(CT200拓展型)標(biāo)準(zhǔn)配置:

主機(jī)、探頭(F或N)、基體(鐵或鋁)、標(biāo)準(zhǔn)片、電池、隨機(jī)文件、儀器箱

CT200N兩用涂層測(cè)厚儀



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